PVD-processen omfatter hovedsageligt følgende trin 3:
Forbehandlingsproces: materialeprøvetagning, bagning (80 grader), coating (vakuum til 4,5P).
PVD-behandlingsteknologi: Princippet for PVD-belægningsteknologi er at bruge lavspændings- og højstrømsbueudladningsteknologi under vakuumforhold, bruge gasudladning til at fordampe målmaterialet og ionisere det fordampede materiale og gas på samme tid og bruge acceleration af det elektriske felt for at afsætte det fordampede materiale og dets reaktionsprodukter på emnet.
Tykkelsen af PVD-belægningslaget er mikron-niveau, og tykkelsen er relativt tynd, generelt 0.3μm-5μm. Derfor kan det forbedre forskellige fysiske og kemiske egenskaber af emnets overflade uden at påvirke den oprindelige størrelse af emnet, og der kræves ingen yderligere forarbejdning efter plettering. Ved at kontrollere de relevante parametre i belægningsprocessen kan farven på belægningen styres; efter at belægningen er afsluttet, kan farven måles med relevante instrumenter, farven kan kvantificeres, og det kan vurderes, om den belagte farve opfylder kravene.
PVD-belægningslaget har en stærkere bindingskraft med arbejdsemnets overflade, filmlaget har en højere hårdhed, bedre slidstyrke og korrosionsbestandighed, og filmlagets ydeevne er mere stabil; PVD-belægning producerer ikke giftige og forurenende stoffer. Formålet med dekorativ belægning er hovedsageligt at forbedre arbejdsemnets udseende, dekorative ydeevne og farve og samtidig gøre emnet mere slid- og korrosionsbestandigt for at forlænge dets levetid.
